“刻线衍射光栅，UV反射式”参数说明
| 型号： | Qx-UV-gl | 规格： | 50 mm X 50 mm X 9.5 |
| 商标： | 一博 | 包装： | 硬塑 |
| 闪耀角： | 8.6 | 刻线数： | 300-1200 |
“刻线衍射光栅，UV反射式”详细介绍
刻线衍射光栅，UV反射式基本介绍
刻线衍射光栅，UV反射式QXKJ提供用于300 nm左右紫外区域的刻线衍射光栅。这些光栅在300nm闪耀波长下具有相对尖锐的效率峰值，并且由刻线的基底材料生产。
刻线衍射光栅，UV反射式性能特点
特性
· 闪耀波长300 nm
· 在闪耀波长下光栅效率高达60%到80%
· 低鬼影：小于主反射的0.5%
· 反射铝膜
· 钠钙玻璃基底，300到1200刻线/mm
· 使用刻线的基底材料生产
刻线衍射光栅，UV反射式技术参数
| Dimensions (W x H x D) | BlazeWavelength | Grooves/mm | Blaze Angle | Dispersion |
| 25 mm x 25 mm x 6 mm | 300 nm | 300 | 2° 34' | 3.33 nm/mrad |
| 50 mm x 50 mm x 9.5 mm | 600 | 5° 9' | 1.67 nm/mrad | |
| 12.7 mm x 12.7 mm x 6 mm | 1200 | 10° 22' | 0.82 nm/mrad |
刻线衍射光栅，UV反射式使用说明
我们提供不同闪耀角的光栅，满足需要**考虑效率的多种光谱学和分析应用。需要更多信息请点击上方光栅教程标签。我们还提供全息光栅，它们不会产生鬼影效应，效率更低。
请注意，这些光栅的反射铝膜是**的，没有保护镀膜。可以定制MgF2或金膜来保护光栅的铝膜表面。金膜在红外波段的性能更好，而MgF2膜提供**保护性；详情请咨询技术支持
刻线衍射光栅，UV反射式采购须知
注意
光栅很容易被潮湿、指纹、气溶胶或任意摩擦材料的轻微接触而损伤。光栅只能在必要时才拿取，只能通过边缘夹持。应佩戴橡胶手套或类似的防护套，以防止手指上的油污接触光栅表面。清洁时只能使用净化的干燥空气或氮气吹扫光栅，其它任何操作都是不允许的。溶剂很可能会损伤光栅表面。
